树脂和气硅高速纳米分散机 ，气硅和树脂高速纳米分散机 二氧化硅纳米高速分散机 ，如何解决气硅在树脂中分散，并解决团聚




：反应釜1中配好树脂和气硅，然后使用齿轮泵的吸力（流量可调）使物料通过分散器，打到反应釜2，期间检测反应釜2中物料的分散情况是否达标。

所谓纳米粉体的团聚是指原生的纳米粉体颗粒在制备、分离、处理及存放过程中相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒粒度小，表面原子比例大，比表面积大，表面能大，处于能量不稳定状态，因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起，很容易团聚，形成团聚状的二次颗粒，乃至三次颗粒，使粒子粒径变大，在每个颗粒内部有细小孔隙。
纳米颗粒的团聚一般分为两种：软团聚和硬团聚。对于软团聚机理，人们的看法比较一致，即，软团聚是由纳米粉体表面分子或原子之间的范德华力和静电引力所致，由于作用力较弱，可以通过一些化学作用或施加机械能的方式来消除。对于硬团聚，不同化学组成不同制备方法有不同的团聚机理，无法用统一的理论来解释。因此需要采取一些特殊的方法来对其进行控制。

气相二氧化硅有效发挥作用的关键是确保其在树脂中获得适当的分散。分散设计越好，则有效性越好。
对树脂行业而言，气相二氧化硅的分散可以使用多种方法，例如碾磨，高速剪切，球磨，砂磨，超声波分散等等，其中前两种方法使用的更多。就主要的分散步骤而言也有两种，即所谓的一步法和两步法 一步法是指将气相二氧化硅加入树脂中直接得到所需要的一定含量的产品，一步法的特点是生产工艺简单，比较适合大批量，产品单一的生产。

两步法是先将气相二氧化硅以较高的比例分散人树脂制成母料，然后再加入树脂稀释到一定的比例。两步法的特点是由于体系粘度较高，分散时剪切力较大，气相二氧化硅的分散较好，适合多品种生产。

目前，国内产品质量较好的企业使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散，能基本满足用户的需要。由于我们行业的特点，有相当多的中小企业分散设备十分落后，分散时根本形成不了剪切力，只是一种搅拌，气相二氧化硅在树脂中根本形成不了网状结构，从而无法发挥材料的性能。造成这种情况的主要原因① 尚未对分散的作用有正确的认识．许多生产商并未意识到分散的重要性；② 不知道对终产品的品质如何评价，

分散方式

涂料中粉体（含纳米材料）的分散主要是靠剪切力的作用。纳米材料在涂料体系中的分散，一般是采用下述分散方法来达到分散效果。

研磨分散：利用三辊机或多辊机的辊与辊速度的不同，将研磨料投入加料辊（后辊）和中辊之间的加料沟，二辊以不同速度内向旋转，部分研磨料进入加料缝并受到强大的剪切作用，通过加料缝，研磨料被分为两部分，一部分附加在加料辊上回到加料沟，另一部分由中辊带到中辊和前辊之间的刮漆缝，在此又一次受到更强大的剪切力作用。经过刮漆缝，研磨料又分成两部分，一部分由前辊带到刮刀处，落入刮漆盘，另一部分再回到加料沟，如此经几次循环，可达到分散的目的。但用三辊机或多辊机进行处理效率低，能耗高，满足不了大生产的需求。

◆ 球磨分散: 通过球磨机中磨球之间及磨球与缸体间相互滚撞作用，使接触钢球的粉体粒子被撞碎或磨碎，同时使混合物在球的空隙内受到高度湍动混合作用而被均匀地分散。

◆ 砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不过研磨介质是用微细的珠或砂。砂磨机可连续进料，纳米粉体的预混合浆通过圆筒时，在筒中受到激烈搅拌的砂粒所给予的猛烈的撞击和剪切作用，使得纳米氧化物能很好地分散在涂料中，分散后的浆离开砂粒研磨区通过出口筛，溢流排出，出口筛可挡住砂粒，并使其回到筒中。通过球磨机和砂磨机分散能取得较好的分散效果及物料细度，但球磨机和砂磨机同样无法避免处理效率低，能耗高的缺点。

◆ 高剪切分散机: 高剪切分散机的核心部件是定子/转子结构，转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来强劲的动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械剪切、液力剪切、离心挤压、液层磨擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺的条件下，瞬间均匀精细地分散，经过高频的循环往复，终得到稳定的产品。与三辊机、球磨机、砂磨机相比，高剪切分散机具有、能耗低等显著优点，是分散工艺的。

chao gao 速高剪切均质乳化机的高的转速和剪切率对于获得chao细微悬浮液是重要的。根据一些行业te殊要求，依肯公司在ER2000系列的基础上又开发出ERS2000chao gao速剪切均质机。其剪切速率可以chao过100.00 rpm，转子的速度可以da到40m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度ji gao,无需其他辅助分散设备。
chao gao 速高剪切均质乳化机是、kuai速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程的设备的设备。当其中一种或者多种材料的细度da到微米数量级时，甚至纳米级时，体系可被认为均质。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。高剪切均质机由于转子gao速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），乳液（液体/液体）和泡沫（气体/液体）。高剪切均质机从而使不相溶的固相、液相、气相在相应熟工艺和适量添加剂的共同作用下，shun间均匀精细的分散乳化，经过高频管线式高剪切分散均质乳化机的循环往复，#终得到稳定的XXX产品。
chao gao 速高剪切均质乳化机的高的转速和剪切率对于获得chao细微悬浮液是重要的。根据一些行业te殊要求，依肯公司在ER2000系列的基础上又开发出ERS2000chaogao速剪切均质机。其剪切速率可以chao过100.00 rpm，转子的速度可以da到40m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度ji gao,无需其他辅助分散设备。

chaoX速高剪切均质乳化机应用于:
奶油
化妆品
牙膏
果汁
洗涤剂
浆糊
盐溶液
催化剂
涂漆 、
聚合物乳化液
农药(除草剂 杀虫剂)


ERS2000
chaoX速高剪切均质乳化机te别应用于:
、
细胞破碎
脂肪乳、
注射液
混悬注射液、
胶体溶液、
金属氧化物悬浮液、
墨水
印刷涂料
色素混合等等

混悬液

chaoX速分散均质乳化机电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达
chaoX速分散均质乳化机电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
chaoX速分散均质乳化机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
chaoX速分散均质乳化机表面处理：抛光、耐mo处理
chaoX速分散均质乳化机进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍


均质乳化机
标准流量（H2O）

输出转速

标准线速度

马达功率

进出口尺寸

型号

l/h

rpm

m/s

kW



ERS 2000/4

300-1,000

14000

44

4

DN25/DN15

ERS 2000/5

1,000-1.5000

10,500

44

11

DN40 /DN 32

ERS 2000/10

3,000

7,300

44

22

DN50 / DN50

ERS 2000/20

8,000

4,900

44

37

DN80 /DN 65

ERS 2000/30

20,000

2,850

44

75

DN150 /DN 125

ERS 2000/50

40,000

2,000

44

160

DN200 /DN 150



1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和#终产品的要求。


树脂和气硅高速纳米分散机 ，气硅和树脂高速纳米分散机 二氧化硅纳米高速分散机 ，如何解决气硅在树脂中分散，并解决团聚