氧化铝陶瓷高速胶体磨,氧化锆陶瓷高速胶体磨,工业化10000转高速胶体磨,陶瓷高速胶体磨 改进型陶瓷材质高速胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力加压产生向下的螺旋冲击力,透过陶瓷胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
上海依肯机械设备主要研发,生产制造,销售流体领域的几大系列:一高剪切分散乳化机,二 均质机,三 粉液分散机,四 胶体磨,五 搅拌机等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。依肯公司作为国nei的zhu名供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确bao设备运行稳定的可靠性。
上海依肯机械设备有限公司另外一项特的创新,就是CMC2000系列陶瓷胶体磨,它的设计使其功能在原有的CMC2000系列胶体磨的基础上又进了一步。由于这项CMC2000系列陶瓷胶体磨能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨CM2000还小。高速陶瓷胶体磨的研磨间隙可以无级调节,从而可以得到的研磨参数。
陶瓷胶体磨是由二组陶瓷转子,二组陶瓷定子组成,在陶瓷胶体磨泵腔内部转子高速旋转,使陶瓷转子甩出,紧贴陶瓷定子,产生强劲的动能能快速地将粉体分散到液体中,、快速、均匀地将一个相或多个相分布到另一个连续的相中,通常物料中的各个相是互不相溶的。陶瓷胶体磨使物料在定转子之间微小的空隙中受到剪切、离心挤压、撞击、研磨、高频振荡等综合作用,使物料经过研磨后细度大大提高,再通过适量的添加剂共同作用,使产品快速、均匀、分散、乳化,研磨,避免了原金属胶体磨磨损后效果差缺点,效能比原来有胶体磨提高3倍以上,陶瓷胶体磨特别是对金属污染要求特别高的企业,如电子和电池行业,可以达到更产品。
陶瓷胶体磨 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/输出连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMC 2000/4 | 50 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMC 2000/5 | 200 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMC 2000/10 | 500 | 4,200 | 23 | 22 | DN50/DN50 |
CMC 2000/20 | 1500 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMC 2000/30 | 3000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMC 2000/50 | 6000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,提供准确的参数,以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
5 本系列机型具有短程送料能力,无自吸功能,须选用高位进料;物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
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